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Título da Patente:
Processo de proteção contra ataque de microrganismos e/ou hidrofilização, para tratamento de sementes, especialmente grãos de consumo humano, e superfícies ligno-celulósicas.
Patente número:
PI0203565-0
Resumo:
"processo de proteção contra ataque de microrganismos e/ou hidrofilização, para tratamento de sementes, especialmente grãos de consumo humano, e superfícies ligno-celulósicas". Onde o reagente tetractilortossilicato, abreviado teos, é usado em dois processos elou metodologias de fabricação de camada protetora, para sementes e superfícies ligno-celulósicas, que permitem proteção contra ataque de microrganismos, hidrofilização da superfície, germinação com maior velocidade e em condições de menor umidade relativa. Os processos são como segue: processo i) deposição por "spray": utiliza-se um reator formado por sistema de inserção de gases e bicos de injeção ("spray"). É recomendável que este reator tenha uma pré-câmara para controle de umidade e exposição a gases. Esse reator também deve permitir a total exposição da amostra ao jato de teos. O jato de teos deve ser formado em câmara separada e aquecida. processo ii) processo de deposição química a vapor enriquecida por plasma: deposita-se uma camada a base de teos, afim de tornar as superfícies resistentes a microrganismos e a vapor de água, mas não a água. O reator necessário para tal processamento deve permitir a injeção de gases e líquidos, possuir pressão última da ordem de 1 mtorr e operar com gerador de potência, em freqüências alternadas ou contínua.
Classificação:
B02B 1/02: Beneficiamento do grão para moagem ou processos similares Tratamento a seco
Classificação:
B02B 1/04: Beneficiamento do grão para moagem ou processos similares Tratamento por via úmida, por ex., lavagem, umedecimento, amaciamento
Classificação:
A23B 9/16: Conservação de sementes comestíveis, por ex., cereais Conservação por produtos químicos
Classificação:
A23B 9/14: Conservação de sementes comestíveis, por ex., cereais Revestimento com uma camada protetora; Composições ou aparelhos para esse fim
Data do Depósito no INPI:
2002-05-28
1a Publicação:
N° RPI: 3.1
Data: 2004-05-25
Descrição do Despacho: Pedido Publicado
2a Publicação:
N° RPI: 2.1
Data: 2002-10-22
Descrição do Despacho: Pedido Depositado
Termos de pesquisa:
processo de deposicao quimica, ataque de microrganismos, processos elou metodologias, abreviado teos, processo ii, teos, processo,
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